洁净烘箱，氮气洁净烘箱，充氮烘箱

  充氮洁净烘箱是一种提供高温净化环境的特殊洁净烘干设备。烘箱整机为不锈钢结构，全部采用无尘材料，箱内持续充氮，使烘箱工作室内处于洁净状态。工作室内温度由温控仪自动控制，并有自动恒温及时间控制装置，并附设有超温自动停电

及报警电路，控制可靠，使用安全。

洁净烘箱，氮气洁净烘箱，充氮烘箱特点

1、全周氩焊，耐高温硅胶迫紧，SUS304＃不锈钢电热产生器，防机台本身产生微尘；
2、耐高温，可以达到和工作场同样的洁净等级；

洁净烘箱，氮气洁净烘箱，充氮烘箱用途

洁净烘箱适用于电子液晶显示、LCD、CMOS、IC、医药、实验室等生产及科研部门。

洁净烘箱，氮气洁净烘箱，充氮烘箱技术参数

1.名称：充氮洁净烘箱

2、主要技术指标：

2.1温度范围： RT（室温）+10～200、300/500℃；

2.2温度偏差：≤±2.0℃；

2.3升温速度：≥2℃/min；

2.4洁净等级：千级以上

2.5工作尺寸：W690×D750×H600mm/W400×D600×H400mm（可自定尺寸）

2.6电源：AC220/380V 50HZ 

2.7 计时功能：具有独立的计时器，计时开关，计时器

HMDS预处理系统，HMDS烘箱，HMDS真空烤箱用途：

   HMDS预处理系统通过对烘箱预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数的控制可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。

   在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到半导体制造中硅片、砷化镓、铌酸锂、玻璃、蓝宝石、晶圆等材料表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。

HMDS预处理系统，HMDS烘箱，HMDS真空烤箱适用行业：

 适用于LED芯片、硅片、砷化镓、陶瓷、不锈钢、铌酸锂、玻璃、蓝宝石、晶圆等材料。

HMDS预处理系统，HMDS烘箱，HMDS真空烤箱技术参数