K575X/K575D 高真空离子溅射仪（离子计/电化学分析仪)

是否提供加工定制	是	品Pai	其他品Pai
型号	K575X/K575D	类型	多元素分析仪器
测试范围	1 x 10-2 mbar到 1 x 10-4 mbar	测量时间	0-20nm/分
电源电压	230/50（V\HZ）	适用范围	应用范围广，除了可选溅射常用金属靶材如：金银铂钯铜锡铝镁铁钴镍铬钛钼钨铱钽等单质纯金属靶材之外，还可选配金钯合金靶、铂钯合金靶、碳靶以及ITO（氧化铟锡）靶等特

主要特点● 全自动控制● Peltier冷却溅射头● 精细镀层（0.5nm Cr粒子）● 可倾斜的特殊旋转台作为标准配置● 薄膜沉积（典型为5nm）● 直径为165mm腔室● 可选双溅射头● 可接膜厚测控仪仪器介绍K575X使用“涡轮”泵，前级为旋转机械泵，整个抽真空过程为自动控制。真空度可调整，以适应铬或其它易氧化金属，以及金靶等不同材料要求，定时器可设置成不同的溅射时间。本系统装配了磁控管靶，靶面直径为54 mm，可快速更换靶材。溅射头用Peltier制冷，可得到高性能、精细颗粒的涂层（无需水冷却）。溅射时参数可预设，包括气体放气电磁阀。K575D（双头）其它与K575X相同，只是具有两个溅射头。在进行特殊涂层的应用时，不需要打开真空即可进行两层沉积溅镀。注：K575D技术规格与K575X相同，但它有双头。K575X具有peltier制冷，对于比较厚的沉积，通常用K575D（双头）单元。优点● 可溅射易氧化金属精细颗粒，如：铬（Cr）或铱(Ir)● 应用范围广，除了可选溅射常用金属靶材如：金银铂钯铜锡铝镁铁钴镍铬钛钼钨铱钽等单质纯金属靶材之外，还可选配金钯合金靶、铂钯合金靶、碳靶以及ITO（氧化铟锡）靶等特殊靶材● 易操作● 无需水冷却● 超高分辨率，可复制涂层● 适应各种样品● 重复膜厚沉积● 样品容易装载和卸载● 不需要打开真空即可进行顺序涂层● 沉积厚度可预设