硅晶体清洗机

我们在成功建立HOXON系统，助力于半导体工业这项事业上，拥有超过二十五年的悠久历史。只要您说出问题，我们已经为您准备了解决方案。我们欢迎您可以与我们的研发人员展开友好的探讨：我们可以为您做些什么。

晶片清洗，UCT-工艺、无机氧化、光阻材料的去除、去离子水的消毒、原位生物膜的去除、化学气相沉积的应用、废水处理、无菌恒温区域。

完全非金属的系统；

气相臭氧容量高达270克/立方米；

液相臭氧容量高达100克/立方米；

AOP(高级氧化)清洁。

PAP-SC-200臭氧清洁系统	COM-AD-08臭氧发生器	FM-PRO臭氧分析仪
可移动型臭氧水系统PAP	臭氧破坏机CAT-HO-8000	CAT-HO-8000水相臭氧破坏机