Voyager 新一代电子束光刻系统
对于工业界和学术界所有关注速度和高分辨的电子束曝光应用，我们推荐您选择VOYAGERTM这款专业电子束光刻系统。Raith非常重视这款具有吸引力的在使用寿命期间具有高性价比、新开发的、创新的eWRITE体系结构。
系统的硬件和软件被一致设计为自动曝光操作，先进的高性能图形发生器和电子光学系统优化设计并协同一致。
系统可实现8英寸样品的高速曝光。系统的稳定性是非常关键的指标，可保证大面积均匀曝光。该系统外部采用环境屏蔽罩，即使在稍差的实验室环境下，仍然能确保系统具有非常好的热稳定性，提高系统对外界环境的容忍度。
00001. 从Z初设计到样品制备完成，实现高速样品加工，提高产量
00002. 智能设计：设备占地面积小，且集成环境屏蔽罩
00003. 创新的、未来安全型系统架构
00004. 专业的电子束曝光系统，可实现每小时1cm2的高速曝光，高性价比
Raith新推出的eWrite技术结合了专业电子束光刻的光学系统和创新的图形发生器设计，该技术适用于研发及批量生产的所有工作。
· HSQ胶上制作亚7nm线条
· SU8胶上制作 1x1 cm² 菲涅尔透镜，曝光时间为53分钟，图为菲涅尔透镜ZX区域
· PMMA双层胶上制作150nm T型栅结构
· ZEP520胶上制作 1x1 cm²光栅结构，曝光时间小于2小时
· 高速度模式（40nA束电流下曝光160um大结构）和高分辨模式（0.4nA束电流下曝光10nm细小结构）自动切换
· ZEP520胶上制作光子晶体波导结构
主要应用:
· 高速直写
· 衍射光学元件
· 防伪元件
· 批量加工化合物半导体器件
样品台:
· 6“ 移动范围
· Z方向移动范围大
电子枪技术:
· eWrite
· 电子
· 50 kV
独特直写模式:
· traxx 长线条无写场拼接曝光模式
· periodixx周期结构无写场拼接曝光模式
