PECVD系统 1200℃开启式管式炉PECVD系统
- 型号：PECVD系统
- 供应商：郑州市恒塑电子科技有限公司-C
- 供应商报价：面议
- 标签：1200℃开启式管式炉PECVD系统,-1,郑州市恒塑电子科技有限公司-C
产品库
| 品牌 | 其他品牌 | 价格区间 | 面议 |
|---|---|---|---|
| 仪器种类 | 管式炉 | 产地类别 | 国产 |
| 应用领域 | 生物产业 |
1200℃开启式管式炉PECVD系统功能特点：
在真空压力下，加在电感线圈的射频电场，使反应室气体发生辉光放电，在辉光发电区域产生大量的电子。这些电子在电场的作用下获得充足的能量，其本身温度很高，它与气体分子相碰撞，使气体分子活化。它们吸附在衬底上，并发生化学反应生成介质膜，副产物从衬底上解吸，随主气流由真空泵抽走，称为等离子体增强化学气相沉(PECVD)
1200℃开启式管式炉PECVD系统
产品用途：
PECVD开启式管式炉系统由开启式管式炉、高真空分子泵系统、射频电源系统及多通道高精度数字质量流量控制系统组成，是实验室生长薄膜石墨烯，金属薄膜，陶瓷薄膜，复合薄膜等的理想选择。
适用于高校、科研院所用于真空镀膜、纳米薄膜材料制备，生长薄膜石墨烯，金属薄膜，陶瓷薄膜，复合薄膜等，也可作为扩展等离子清洗刻蚀使用
产品参数
