HAD11-WGL-2 半导体泵浦激光原理实验装置/半导体激光原理实验装置 厂家

半导体泵浦激光原理实验装置/半导体激光原理实验装置 厂家

型号：HAD11-WGL-2

仪器简介

适用于大学近代物理教学中非线性光学实验，本实验以808nm半导体泵浦Nd:YVO4激光器为研究对象，让学生自己动手，调整激光器光路，产生1064nm激光。在腔中插入KPT警惕产生532nm倍频光，观察倍频现象，测量倍频效率，相位匹配角等基本参数。从而对激光原理及激光技术有一定了解。
实验原理同HAD1WGL-1型半导体泵浦激光原理实验装置，泵浦激光源强度连续可调，指示光源He-Ne激光器。





仪器参数

光学导轨，二维调节架，四维调节架
泵浦光源 808nm半导体激光器
指示光源 650nm半导体激光器
晶体 KPT Nd:YVO4
输出镜及滤光片
激光功率计指示

仪器介绍
   WGL-2适用于大学近代物理教学中非线性光学实验，本实验以808nm半导体泵浦Nd：YVO4激光器为研究对象，让学生自己动手，调整激光器光路。在谐振腔中插入KTP晶体产生532nm倍频光，观察倍频现象，测量相位匹配角，阈值等基本参数。从而对激光原理及激光技术有一定的了解。
基本配置及参数： 

编号
名称
规格
件数
1
导轨主体
长1m，硬铝型材
1
2
808半导体激光器
连续输出功率：500mW，ZX波长：808±10nm，
    偏振态：TE
1
3
氦氖激光器
632.8nm，功率≤1mW
1
4
红外显示卡
可观察0.7~1.6μm的近红外光
1
5
KTP晶体
透过波段：0.35~4.5μm，电光系数：γ33=36Pm/V
1
6
Nd:YVO4晶体
掺Nd3+浓度0.1~3.0 atm%，平面度<λ/10@632.8nm
    镀膜：AR@1064nm，R<0.1%，HT@808nm，T>90%
1
7
光学元件
输出镜（R=50mm），滤光片
各1
8
光功率测试仪
2μW、20μW、200μW、2mW、
    20mW、200mW六档功率范围3位半数字显示器
1
9
其他
光源架，四维调节架，二维调节架，光靶
 

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