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2000 胶体磨|实验室胶体磨

产品信息
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中试型胶体磨

CM2000/4 (PP2000/4)


功率


2.2-4 KW


转速


0-14000rpm


线速度


0-40m/s


尺寸(长X宽X高)


(450X250X350)mm


重量


45


操作条件


0-16bar

      中试型胶体磨是由电动机通过皮带传动带动转齿(或称为转子)与相配的定齿(或称为定子)作相对的高速旋转,被加工物料通过本身的重量或外部压力(可由泵产生)加压产生 向下的螺旋冲击力,透过中试型胶体磨定、转齿之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,达到物料超细粉碎及乳化的效果。
      中试型胶体磨的细化作用一般来说要弱于均质机,但它对物料的适应能力较强(如高粘度、大颗粒),所以在很多场合下,它用于均质机的前道或者用于高粘度的场合。在固态物质较多时也常常使用胶体磨进行细化。
      CM2000/4中试型胶体磨是专门为胶体溶液生产所设计,特别是那些需要很好乳化和分散效果的胶体生产。 CM2000/4中试型胶体磨的线速度很高,剪切间隙非常小,这样当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。 CM2000/4中试型胶体磨的定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。
     公司另外一项独特的创新,就是锥体磨CMO2000系列,它的设计使其功能在原有的CM2000的基础上又进了一步。由于这项创新,CMO2000能够湿磨和研磨,产生的颗粒粒径甚至比胶体磨CM2000还小。研磨间隙可以无级调节,从而可以得到精确的研磨参数。 研磨头的表面涂上了一层极其坚硬的硬质材料,从而使其表面具有非常粗糙的纹理。这种硬质材料是由碳化物、陶瓷等高质量物质构成,并且具有不同的粒径。研磨头处形成了一个具有强烈剪切的区域,可以输送高粘度和低粘度物料,但它的分散效果和后的粒径大小都比胶体磨CM的效果更加理想。

胶体磨



流量*



输出



线速度



功率



入口/出口连接



类型



l/h



rpm



m/s



kW


 

CM 2000/4



700



9,000



23



2.2



DN25/DN15



CM 2000/5



2,500



6,000



23



7.5



DN40/DN32



CM 2000/10



7,500



4,200



23



15



DN50/DN50



CM 2000/20



20,000



2,850



23



27



DN80/DN65



CM 2000/30



40,000



1,420



23



50



DN150/DN125



CM 2000/50



80,000



1,100



23



110



DN200/DN150



*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,同时流量可以被调节到Z大允许量的10%。


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