TSV-1200 磁控溅射镀膜机

用途：磁控溅射PVD镀膜，氮化钛(TiN)、氮碳化钛(TiCN)、氮化锆(ZrN)、氮化铬(CrN)、氮化铝钛(TiAIN)、碳化钛(TiC)等

基材：不锈钢,锌合金,塑料

应用：外壳，MP3外壳，数码相机外壳，各种标Pai的装饰改性加硬镀膜

颜色：白色，金色， 银色， 黑色 ， 兰色等

基本参数：

1、真空室尺寸：1210mm(直径)×1200mm(高)；

2、抽气时间速：大气到5×10^-3Pa≤20min (空载, 冷态,洁净)；

3、Z高烘烤温度:300℃

4、极限真空：优于1×10^-3Pa；

5、采用侧面对开门方式,便于工件装卸；

6、3只观察窗口，左右门上各一个，室体正前方一个；

7、2台φ400mm口径分子泵、1台ZJP300型罗茨泵， 2台2X-70型机械泵抽气；

8、一套公、自转工转机构，采用下驱动方式的二维平面行星机构；自转轴20根；

9、所有驱动引入采用带水冷套磁流体密封；

10、四对磁控溅射靶平行安装且成圆周分布，靶材尺寸：910mm×120mm(长×宽)；

11、4路进口质量流量计进气；

12、预溅射小车挡板，控制预溅射工艺；

13、三台30KW中频电源及一台30KW脉冲偏压电源；

14、控制系统采用触摸屏上位机(工控机)+下位机(PLC)的控制形式

15、控制系统有手动和自动，全系统具有互保护, 泵阀互锁。