上海物光光电轮廓仪WGL

上海物光光电轮廓仪WGL特点：
   本仪器采用非接触、光学相移干涉测量方法，测量时不损伤工件表面，能快速测得各种工件表面微观形貌的立体图形，并分析计算出测量结果。适用于测量各种量块、光学零件表面的粗糙度；标尺、度盘的刻线深度；光栅的槽形结构镀层厚度和镀层边界处的结构形貌；磁（光）盘、磁头表面结构测量；硅片表面粗糙度及其上图形结构测量等等。

由于仪器测量精度高，具有非接触和三维测量的特点，并采用计算机控制和快速分析、计算测量结果，本仪器适用于各级测试、计量研究单位工矿企业计量室，精密加工车间，也适用于高等院校和科学研究单位等。

上海物光光电轮廓仪WGL主要技术参数

表面微观不平深度测量范围

在连续表面上，相邻二象素之间没有大于1 / 4 波长的高度突变时：1000 一1nm

相邻二象素之间含有大于1 / 4 波长的高度突变时：130 一1nm

测量的重复性：δRa ≤0.5nm

物镜倍率:40X

数值孔径:Φ 65      

工作距离:0.5mm

仪器视场  目视: Φ0.25mm