超纯水用除静电装置 N4R/N4C系列 超纯水用除静电装置 N4R/N4C系列

超纯水除静电设备领域的Z杰出代表

晶元和半导体芯片切割机的必配设备

特征：

• 超越新世纪的节约环保设计理念，采用当前Z先 进的比阻抗控制技术，来YZ超纯水中静电的发生。

• 在半导体制造和FPD制造、晶元（芯片）切割工序 中被用来对超纯水进行比阻抗的Z优化控制，防止 静电破坏和微粒子的附着。

• 创造划时代技术指标的Z产品。

• 可根据用途选择相应机型

• 装机容易
  全机型阻抗探头内置，配管容易。

• 大水量，压力损失小
  水量3000L/h时，压力损失0.06MPa

• 操作简单，控制精度高
  开机后只需输入所要阻抗值，即可 马上进行±0.03MΩ/cm精确控制。

• 可在高水压环境下运行
  Z高使用压力在0.5MPa,可以自由 进行机种配置。

• 水量变动应答速度快
  使用水量发生很大变化时也能迅速 做出调整控制。

• 经济环保
  不需要Co2溶解膜等旧式机种必 不可少的高价的消耗品，Co2排气 和排水也不要。

• 双氧水杀菌对应
  可用3%双氧水进行杀菌处理， 细菌繁殖也不用担心。