设备名称 微波真空高温炉
型 号 MKZ-T4B
适用范围 真空与气氛状态下，陶瓷材料的合成与烧结；无机或金属材料的烧结，热处理，分体煅烧；无氧或者气体保护状态下，有机质的热解碳化；真空干燥，浓缩，热固化，热处理；运用氧气气氛环境，实现化学分析中的灰化处理。
通用功能
1、采用不锈钢真空箱体设计，既能承担负压，又可减少反应气氛的腐蚀
2、允许气氛环境：空气、氮气、氩气、氧气等多种气体
3、适合不含水的高温加热，真空度可达-0.099Mpa(青岛海拔高度测得数据)
4、进口红外测试仪，可以不接触测试物料温度，避免微波场干扰
5、高温加热区容积：8L,约200×200×200mm（宽×深×高）
6、根据物料特性，Z高温度可达到1600℃，长时间连续工作温度100~1450℃
7、采用PLC自动控制，温度和功率均智能可控，液晶对话界面
8、内置高温换热器，适合高温气体排除
9、悬臂门，多层防护，杜绝微波泄漏和气体密封
10、门体多重连锁结构，开门断电，保护操作人员，微波泄漏量符合国标
规格参数
微波频率（MHz） |
2450±50 |
电源要求 |
AC220V/50Hz |
功率范围 |
0～3200W连续输出 |
气氛系统 |
真空、氧化性、保护性及弱还原性气氛 |
Z高温度 |
1600℃，常用温度0~1500℃ |
测温方式 |
红外测温仪 |
控温范围 |
700~1700℃ |
控温精度 |
读数±1% |
炉膛材质 |
陶瓷纤维 |
控制系统 |
PLC自动化控制，触摸屏操作 |
