德国Raith电子束光刻/电子束曝光/
- 品牌：Raith
- 型号：EBP
- 产地：进口
- 供应商：上海嗨思电子科技有限公司
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产品库
德国瑞斯电子束光刻机 联系方式：133-718-58581 吴先生
Raith 电子束光刻系统/电子束光刻机
公司介绍：
电子束光刻(电子束曝光、电子束直写）广泛应用于低温电子器件、光电子器件、量子结构、输运机制、微系统、光器件、半导体与超导体材料界面、紫外曝光模板和纳米压印模板等微纳结构的制备中。针对科研经费有限而应用广泛的特点，Raith开发出多种面向科研的电子束光刻（电子束曝光、电子束直写）系统，从目前已拥有的900多家用户来看，其产品的方向和水平充分满足了研发及小批量生产的需求。世界上许多知名的大学、研究所和公司的研发部门都采用了Raith的电子束光刻/电子束直写系统，如：IBM、AT&T、Stanford、Cambridge、Infineon、中科院物理所（三套系统）、中科院半导体所、清华大学、北京大学、中山大学、ZG科技大学、南京大学、国家纳米ZX等。
2013年2月15日，Raith宣布收购Vistec公司。Raith的成套电子束光刻机处理能力可覆盖小样片直至8英寸大样片，用户可根据应用需要选择到适合的机型；所有Raith及以前的Vistec用户将共享Raith完善的服务体系； Raith进一步技术研发和公司发展的基础将更加牢固。
产品：
一、电子束光刻机 / 电子束曝光（电子束直写）系统：
EBPG电子束光刻系统可处理200mm的大硅片。它采用了专业的通用设计标准，系统自动化程度高、工作效率高，可满足众多需求，可用于半导体器件的加工和模板制作，同时也是大型实验ZX的。
VOYAGER电子束光刻系统的问世标志着Raith新一代电子束直写技术的产生。它的革新性的设计和性能指标，所追求的目标是：优良的结果，高速度和低成本。
RAITH150 Two是Raith自动化程度很高的直写系统，用于进行长时间和大面积曝光。它是纳米技术研究ZX和实验室的理想工具。
eLINE Plus是一台灵活的电子束曝光和纳米工程平台，适用于大学研究所的多学科研究的特殊需求。
PIONEER Two适合大学研究所的既需要高分辨电子束曝光，也需要高倍成像的要求。
traxx和periodixx可实现零拼接曝光，用于直写长路径波导、光子晶体等重复性图案，没有任何拼接误差。
TwinLITH –一种全新的概念。Raith提供电子束和离子束曝光系统，相同的硬件和软件平台，两套系统并行工作将更有效率，纳米加工任务圆满完成。
二、聚焦离子束加工系统：
ionLINE离子束加工系统可提供多种加工手段，因而用户可应用不同的工艺步骤来完善纳米加工工艺。离子束加工系统可不再局限于基于光刻胶的曝光，更多地使用直接的图型化技术，如Milling、刻蚀或沉积，以及直接掩模包括硬掩模，注入或功能化。
三、图形发生器——使扫描电镜、聚焦离子束和透射电镜具备电子束光刻直写功能
应用：
