双折射测量仪/应力仪
- 品牌：美国 Hinds
- 型号：Exicor150AT
- 产地：进口
- 供应商：上海卓克光电科技有限公司
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产品库
美国Hinds成立于1971年，凭借其专利的PEM（光弹变调制）技术研发了高稳定的应力双折射测量系统，具有目前世界上ZG的精度，广泛用于玻璃、镜片、激光晶体等行业。同时，利用PEM，开发了Stokes偏光计、Muller偏光计、2-MGEM偏光计、Kerr常数测量仪等系统。
高精度应力双折射测量系统
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HIGH SENSITIVITY 高灵敏度 |
Extended Range 宽范围 |
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(延迟范围) |
0.005nm to 100+ nm |
0.005 nm to 300+ nm |
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Retardation Resolution/Repeatability1 (延迟分辨率/重复精度) |
0.001nm / ± 0.008 nm |
0.001nm / ± 0.015 nm |
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Fast Axis Angle Resolution/Repeatability1 (快轴角度分辨率/重复精度) |
0.01° / ± 0.05° |
0.01° / ± 0.07° |
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Measurement Time (测量时间) |
Up to 100 pps |
> 150 pps |
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Scan Area (扫描范围) |
150X 根据客户要求 |
150X 根据客户要求 |
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Wavelength (光源波长) |
632.8nm |
632.8nm |
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Spot Size (激光光斑大小) |
~ |
~ |
Hinds Excior 应力双折射测量系统的发展历史：
1998年，开发了基于光弹调制的光学材料中低水平残余双折射的双折射测量系统。
1999年， ExicorTM 双折射测量系统提供突破性的低水平双折射（ 0.005 nm ）。
2000年，Exicor receives the CLEO 2000 New Product Award.
2000年，Exicor 系统获得 CLEO 2000 年度新产品奖。
2001年，Exicor 150AT 获得 Photonics Circle 2000 年度优秀奖。
2001年，Exicor 系统获得 R&D 100 2001 年度奖励。
2003年，Exicor DUV 系统赢得 R&D 100 2003 年度奖励。
2004年，Exicor 193 DUV 问世。
2007年，Exicor 193 DUV（第三代DUV）推出升级计划，重复精度提高三倍。
n*备注：Hinds公司已获得双折射定量测量相关的17项专利，并且还在增加中。
以下提供Hinds Exicor应力双折射测量系统的产品信息给您：
Features设备特点:
Automated XY stage
2D and 3D graphical representation of birefringence parameters
Bench top design
Flexible stage design for adding custom parts holders
Advanced data analysis features included standard in user interface
设备有多种规格可选：150x150mm, 250x250mm, 450x450mm, 600mmx600mm, 1150x1350mm（GEN5）, GEN6, GEN8, 以及可定制各种尺寸测量幅面，etc.
