应用领域: 1)半导体:Poly-Si,GaAs,GaN,InP,ZnS,SiGe... 2)介质材料: SiO2,Si3N4,TiO2,ITO,ZrO2,BTS,HfO2... 3)显示材料:a-Si,n+a-Si,氧化物,ITO,屏间隙,光刻胶与聚酰亚胺薄膜,石英... 4)光学镀膜:硬度涂层,增反射薄膜,滤波器,封装和功能薄膜... 5)储存记忆材料:光感导鼓,Video Head,光盘... 6)其他:示波管上的光阻薄膜材料与掩膜板,金属薄膜,激光镜,AlQ3... 测量原理:反射计 特点: 测量迅速，操作简单 非接触式，非破坏方式 测量范围:0.01um~ 35um(Depends on Film Type) 光斑尺寸:40um/20um, 4um(option) 测量速度:1~2 sec./site
