WGL光电轮廓仪 WGL光电轮廓仪(2007BCEIA金奖产品)

品Pai	精科	型号	WGL光电轮廓仪
测量范围	表面微观不平深度测量范围：130?1nm	测量精度	8nm
外形尺寸	5.2X5.2nm（mm）	用途	它主要用于测量各种精密加工零件表面的微观三维结构，如表面粗糙度；零件表面的刻线；刻槽的深度和镀层的厚度等

WGL光电轮廓仪(2007BCEIA金奖产品)应用范围：光电轮廓仪的应用范围很广，它主要用于测量各种精密加工零件表面的微观三维结构，如表面粗糙度；零件表面的刻线；刻槽的深度和镀层的厚度等。具体地说，如量块、光学零件表面的粗糙度；标尺、度盘的刻线深度；光栅的槽形结构；镀层厚度和镀层边界处的结构形貌；磁（光）盘、磁头表面结构测量；硅片表面粗糙度及其上图形结构测量等等。由于仪器测量精度高，重复性好，具有非接触和三维测量等特点，并采用计算机控制和快速分析、计算测量结果，本仪器适用于各级测试、计量研究单位，工矿企业计量室，精密加工车间和高等院校及科学研究单位等。【产品详情】仪器由倒置式改为正置式，更符合人们的操作习惯；应用CMOS代替CCD，省去图象卡并提高了质量；用低压电源代替高压电源，节省了仪器成本；用国产的代替德国进口压电陶瓷，解决了关键部件的进口难题；增加了自动步距和亮度校正程序，同时增加了局部放大三维立体图功能；表面微观不平深度测量范围：130?1nm测量的重复性：sRa≤0.5nm测量精度：8nm物镜倍率：40X数值孔径：0.65仪器视场 目视：f0.25mm摄象：0.13X0.13mm仪器放大倍数 目视：500X摄象（计算机屏幕观察）：2500X 接收器测量列阵：1000X1000 象素尺寸：5.2X5.2nm