机械剥离二氧化硅基底单层二硫化钼

品牌：XFNANO
型号：XFG14
供应商：南京先丰纳米材料科技有限公司
供应商报价：¥3500
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产品信息

CAS号： 1317-33-5
数量：大量
规格： 1 盒

产品名称

中文名称: 机械剥离二氧化硅基底单层二硫化钼

英文名称：Mechanical exfoliation MoS2 on SiO2

性质
形态：薄膜
参数
基底：二氧化硅
基底尺寸：10 mmx10 mm
MOS2面积: ＞10 µm2

应用
先丰纳米ZX推出机械剥离制备的二硫化钼，相比较锂插层制备的单层类石墨烯材料，该类材料具有缺陷少，优异的光学性质，可以研究层数和荧光效应，此外，由于保持了原有晶格结构，所以该类材料是制备器件的理想材料。

其他信息
详情请发邮件至：sale@xfnano.com

温馨提示：不可用于临床ZL。

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