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M5000 M5000直读光谱仪

产品信息

规格和技术参数

项目

指标

检测基体

基体合金的成分测量

检测时间

试样品类型而定,一般30s左右

光学系统

帕型-龙格

波长范围

F型:140680nm;N型170680nm;S型:200~680nm

工作电源 

220±20V AC,(50±1Hz,保护性接地的单相电源

EMC

IEC61000-4-2IEC61000-4-4IEC61000-4-5

工作温度

(1030)

存储温度

(045)

工作湿度

20%~80

氩气纯度要求

99.999%

氩气进口压力

0.5MPa

氩气流量

激发流量约3.5L/min,维持流量约0.4L/min,待机流量约0.1L/min

尺寸

726mm,宽622.5mm,高546.5mm

重量

80kg

激发ZD功率

400VA

待机平均功率

50VA

光源类型

脉冲合成全数字光源(可编程脉冲全数字光源)

放电频率

1000 Hz

放电电流

ZD400A

引燃点火脉冲

114kV

火花激发脉冲

20230V

电弧激发脉冲

2060V

激发台孔径

13mm

 

样品激发台
  • 激发室的特殊设计,使样品室/激发室的清理工作更加便利
  • 优化的氩气气路设计保证激发台的有效冷却和激发过程中产生的金属粉尘有效进入过滤器;使样品激发更加稳定,并大大减少了人体对金属粉尘的摄入,有利于保护操作人员的健康安全
  • 更小的激发空间,使氩气消耗更小
  • 便于使用的样品夹具
  • 具有电极自吹扫功能,使电极使用寿命更长、清洁电极更加容易
  • 13 mm的激发孔径更利于样品分析
  • 开放式样品激发台可适应各种大小、更多形状样品的分析
  • 透镜部分的结构设计,使透镜拆装、擦拭更方便,氩气的冲洗设计更可以延长透镜清洗周期
光源
  • 脉冲合成全数字光源(可编程脉冲全数字光源),频率可达1000Hz
  • 高能预燃技术(HEPS
  • 优化设计的控制和功率电路,完善的激发安全保护功能
  • 为不同分析目标提供火花、电弧或组合激发波形
  • 频率:(1001000Hz
  • 放电电流:ZD400 A
3.5数据采集系统
  • 高性能FPGA处理器,具有超高速数据采集及控制功能
  • 单火花采集及光谱延时采集,实现更优化元素含量测量
  • 外置式计算机
  • 高速以太网数据传输
分析软件
  • 基于Windows操作系统的图形化分析软件,方便实用
  • 完备的自动系统诊断功能
  • 完善的数据库管理功能,可方便查询、汇总数据
  • 智能校正算法,保证仪器稳定可靠
  • 完备的谱线信息和干扰扣除算法,保证仪器分析更为JZ

   适应新的Windows操作系统

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