激光直写系统

产品信息

仪器简介：欧洲先进的无掩膜激光直写系统，Z小线宽可达 100nm，为MEMS, BioMEMS, Micro Optics, ASICs, Micro Fluidics, Sensors, CGHs等

仪器简介：

欧洲先进的无掩膜激光直写系统，Z小线宽可达 100nm，为MEMS, BioMEMS, Micro Optics, ASICs, Micro Fluidics, Sensors, CGHs等以及相关微纳米结构领域的科研工作者，提供强有力的手段！

技术参数：

加工线宽：Z小可达 100nm；

主要特点：

多种曝光模式：
2D曝光模式：构建二维纳米结构；
3D曝光模式：可加工三维纳米结构；

压电驱动平台配合精密自动驱动平台，具有更高的水平定位分辨率；

系统自动聚焦、纠斜、对准；

多功能试样夹具；
快速样品样品更换：<1秒；

专业图形设计软件：支持导入CAD设计软件，2D和3D随意简单设计；

信息声明：本产品供应信息由仪器网为您整合，供应商为（巨力科技有限公司），内容包括（激光直写系统）的品牌、型号、技术参数、详细介绍等；如果您想了解更多关于（激光直写系统）的信息，请直接联系供应商，给供应商留言！

供应商产品推荐

您可能感兴趣的产品