光学膜厚测厚仪(薄膜厚度测量仪）（Thin-Film Thickness Measurement Systems）

仪器介绍

SpectraThick series的特点是非接触, 非破坏方式测量，无需样品的前处理，
软件支持Windows操作系统等。ST series是使用可视光测量wafer，glass等
substrates上形成的氧化膜，氮化膜，Photo-resist等非金属薄膜厚度的仪器。
测量原理如下：在测量的wafer或glass上面的薄膜上垂直照射可视光，这时光
的一部分在膜的表面反射，另一部分透进薄膜，然后在膜与底层 (wafer或glass)
之间的界面反射。这时薄膜表面反射的光和薄膜底部反射的光产生干涉现象。
SpectraThick series就是利用这种干涉现象来测量薄膜厚度的仪器。仪器的光
源使用Tungsten Lamp，波长范围是400 nm ~ 800 nm。从ST2000到ST7000使用
这种原理，测量面积的直径大小是4μm ~ 40μm (2μm ~ 20μm optional)。
ST8000-Map作为K-MAC (株) Z主要的产品之一，有image processs功能，是
超越一般薄膜厚度测量仪器极限的新概念上的厚度测量仪器。测量面积的Z小
直径为0.2μm，远超过一般厚度测量仪器的测量极限 (4μm)。顺次测量数十个点
才能得到的厚度地图 (Thickness Map) 也可一次测量得到，使速度和精确度都
大大提高。这一技术已经申请专利。K-MAC (株) SpectraThick series的又一
优点是一般仪器无法测量的粗糙表面 (例如铁板，铜板) 上形成的薄膜厚度也
可以测量。这是称为VisualThick OS的新概念上的测量原理。除测量薄膜厚度外
还有测量透射率，玻璃上形成的ITO薄膜的表面电阻，接触角度 (Contact Angle) 
等的功能。

   

技术参数

Stage Size:150x120mm(70x50mm Travel Distance);400x400mm(200x200mm Travel Distance)
Measurement Range:200Å~ 35μm(Depends on Film Type);100Å~ 50μm(Depends on Film Type)
Spot size:20μm Typically;40μm/20μ m/10μ m, 4μ m (option)
Measurement Speed:1 sec/site Typically
Total Magnification:40X ~ 500X
Type of Illuminati:12v 20W Halogen Lamp Built-in Control Device & Transform;12v 100W Halogen Lamp

详细资料请登入http://www.beijingec.com

主要特点

1) 因为是利用光的方式，所以是非接触式，非破坏式，不会影响实验样品。
2) 可获得薄膜的厚度和 n,k 数据。
3) 测量迅速正确，且不必为测量而破坏或加工实验样品。
4) 可测量 3层以内的多层膜。
5) 根据用途可自由选择手动型或自动型。
6) 产品款式多样，而且也可以根据顾客的要求设计产品。
7)可测量 Wafer/LCD 上的膜厚度 (Stage size 3“ )
8)Table Top型, 适用于大学,研究室等

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