电子束蒸发-电子束蒸发镀膜机-电子束蒸发镀膜设备-E-Beam Evaporator System

   effusion cell，泻流源。

PVD产品'完整的热和电子束蒸发系统的设计，以满足客户的特殊需求沉积。这些系统可以包含根据需要的单个或多个热源，多袋式电子束源和多枪源。线性电子束源也可提供。

系统来完成与电源和沉积速率监视器闭环反馈控制。衬底行星或旋转阶段可包括加热到温度超过900℃的根据基板尺寸和材料。此外，离子束辅助沉积（IBAD）或底物预清洗考夫曼，结束音乐厅和RF离子源可以方便地集成到我们的沉积室。

我们所有的蒸发系统的来完成适当的泵浦包（根据系统要求低温或涡轮泵），湿式或干式机械泵，手动或电动气动阀，所有必需的真空计，完整的电力分配，电子机架，水和空气歧管，安全联锁装置，等等。

多晶片行星圆顶，和基片加热器可被提供为各种基材的形状和大小。负载锁可用于基片直径达8英寸（200毫米）。真空系统可以被设计为具有低于10-9个碱基的压力。


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