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微波等离子清洗机PLASMA-PREEN

产品信息
  • PLASMA-PREEN等离子清洗/蚀刻系统是一台台式微波等离子清洗机设备。等离子清洗机系统融合了下面的特点,并在众多的应用领域中得到肯定。

    产品特色

    负载循环控制,模拟功率控制

    处理机存储

    水冷底座

    减少污水排放

    安全保护设计

    操作简便 维护方便

    应用范围:

    混合电路板制造中基片的清洗

    打线工艺前清洗电子部件,提高其可靠性

    锡焊或焊接工艺前,关键性镀金部件的清洗

    清洗半导体元器件

    光刻胶去胶

    上胶、印刷和其它表面浸湿操作的表面准备

    镀膜前对光学器件清洗

    清洗石英、蓝宝石及其它材料

    适用工艺:

    打线垫清洗、减少金属氧化物、清洗 Pd-Ag 裸芯片垫;

    去除光刻胶、塑料表面上胶处理、去除油渍或是环氧残留物;

    清洗陶瓷基片、清洗玻璃部件、清洗光学部件、清洗半导体表面、清洗镀银部件;

    塑胶密封剂去除--失效模式分析

    型号

    PPC862

    PPC973

    反应舱尺寸(H*W*D)

    203mm x 152 mm x 50mm

    229 x 178 x 76 mm

    冷却面(H*W)

    203 mm x 152 mm

    229 mm x 178 mm

    反应舱

    方形舱体

    方形舱体

    反应舱材质

    派热克斯玻璃&铝材

    派热克斯玻璃&铝材

    水冷式

    水冷装置

    水冷装置

    负载比

    10%至连续性

    10%至连续性

    标准流量

    5cu-ft./Hr.@STP

    5cu-ft./Hr.@STP

    频率(GHz)

    2.45 GHz

    2.45 GHz

    功率(Watts)

    100750之间调节

    100750之间调节

    重量 (Kg)

    29.5kg

    38.5kg

    真空泵系统

    抽气速率3.8cfm/

    抽气速率3.8cfm/

    产品相关关键字: 微波等离子清洗机 2.45GHz等离子清洗机 等离子去胶机 等离子清洗机 等离子刻蚀机
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