ICP等离子 RIE反应离子刻蚀机

     德国SENTECH公司 ICP等离子/ RIE反应离子刻蚀机－－－－-上海/苏州/无锡/南京/天津/北京/武汉/西安/杭州/济南/广州

    SENTECH仪器（德国）有限公司研发、制造和销售先进的薄膜测量仪器（光谱椭偏仪、激光椭偏仪、反射膜厚仪）、光伏测量仪器（在线和离线测量工具）和等离子工艺设备（等离子刻蚀机、等离子沉积系统、原子层沉积系统、用户定制多腔系统）。
    仪器广泛应用于微电子、光电、纳米技术、LED、平板显示、材料、有机电子、光伏、玻璃镀膜、生物学、生命科学、等研发领域。

    NOVTEC寓意“科技创新”，即诺威特测控科技有限公司，在德国、日本设有代表处，多年来致力于将世界品Pai的高科技产品带给ZG及亚洲的广大用户，并为客户提供完善的售后服务，协助他们提高生产技术水平、竞争力及增加盈利，专业从事工业测量与测试产品的销售与研发，拥有产品研发ZX、研究院和生产工厂，技术力量雄厚。

 产品简介

    SI 500为研发和小批量生产应用提供先进的ICP刻蚀工艺，具备高度的灵活性和模块化设计特点,可实现范围广泛的刻蚀工艺。包括刻蚀III-V化合物、II-VI化合物、介质、石英、玻璃、硅和硅化合物等。

    SI 500C低温ICP刻蚀机，可在-100℃左右的低温下实现深硅刻蚀。优点是刻蚀后形成非常光滑的侧壁，尤其在光学应用上非常重要。同时低温刻蚀工艺的高刻蚀速率可实现刻穿样片。

    SI 591 采用模块化设计、具有高度灵活性，适用于III-V 化合物、聚合物、金属盒硅刻蚀工艺，可配置为单反反应腔系统、或带预真空室或片盒站的多腔系统。特别适用于采用氟基气体的工艺，具有很高的工艺稳定性和重复性。

型号

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