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福州测量薄膜厚度仪器林州光谱型椭偏仪林州深受广大客户青睐

产品信息
产品简介: ETSys-Map-PV是针对高端薄膜太阳电池研发和质量控制领域中大面积样品检测专门设计的在线薄膜测量系统。$n ETSys-Map-PV用于对1.4m * 1.1m及以上的大面积薄膜
产品简介:$n $n ETSys-Map-PV是针对高端薄膜太阳电池研发和质量控制领域中大面积样品检测专门设计的在线薄膜测量系统。$n    ETSys-Map-PV用于对1.4m * 1.1m及以上的大面积薄膜太阳电池样品进行在线检测。可测量光滑平面或粗糙表面基底上的纳米薄膜，包括单层或多层纳米薄膜样品的膜层厚度、折射率n和消光系数k；并可同时测量块状材料的折射率n和消光系数k。可测量样品上指定区域的样品参数以及样品表面的均一性分布。$n    ETSys-Map-PV融合量拓科技在高精度激光椭偏仪及光伏在太阳能电池领域的先进技术和产品设计方面的经验，性能。$n特点:$n大面积绒面样品上全表面测量$n可对大面积绒面薄膜太阳电池样品上各点的性质进行分析和比较。先进的光能量增强技术、低噪声的探测器件以及高信噪比的微弱信号处理方法，实现了对粗糙表面散射为主和极低反射率为特征的绒面太阳电池表面镀层的高灵敏检测。$n微米量级的全面积扫描精度$n先进的系统设计，能够使探头到达样品上每个点，扫描精度达到微米量级。$n原子层量级的膜厚分析精度$n采用非接触、无破坏性的椭偏测量技术，对纳米薄膜达到极高的测量准确度和灵敏度，膜厚测量灵敏度可达到0.05nm。$n简单方便安全的仪器操作$n用户只需一个按钮即可完成复杂的材料测量和分析过程，数据一键导出。丰富的模型库、材料库方便用户进行高级测量设置。$n应用:$n      ETSys-Map-PV适合于高精度要求的薄膜太阳电池研发和质量控制。$n  ETSys-Map-PV可用于测量大面积的薄膜太阳电池样品上单层或多层纳米薄膜层构样品的薄膜厚度、折射率n及消光系数k；$n  ETSys-Map-PV可用于测量块状材料的折射率n及消光系数k；$n  ETSys-Map-PV可应用于：$n大面积薄膜太阳电池基底的材料测量$n薄膜太阳电池玻璃基底上透明导电氧化物（TCO）镀膜测量$n $n技术指标:
n $n $n $n 项目$n $n $n 技术指标$n $n $n

【福州测量薄膜厚度仪器林州光谱型椭偏仪林州深受广大客户青睐一共有★★30★★多种型号以上只显示1-3种型号，如没有合适您的产品请咨询 河北德科机械设备有限公司】福州测量薄膜厚度仪器林州光谱型椭偏仪林州深受广大客户青睐多种型号内容
型号:JX200089EX3 自动椭圆偏振测厚仪

$n
$nEX3自动椭圆偏振测厚仪是基于消光法（或称“零椭偏”）测量原理，针对纳米薄膜厚度测量领域推出的一款自动测量型教学仪器。与EM22仪器相比，该仪器采用半导体激光器作为光源，稳定性好，体积更小。
$nEX3仪器适用于纳米薄膜的厚度测量，以及纳米薄膜的厚度和折射率同时测量。
$nEX3仪器还可用于同时测量块状材料（如，金属、半导体、介质）的折射率n和消光系数k。
$n特点:
$n经典消光法椭偏测量原理
$n仪器采用消光法椭偏测量原理，易于理解和掌握椭偏测量基本原理和过程。
$n方便安全的样品水平放置方式
$n采用水平放置样品的方式，方便样品的取放。
$n紧凑的一体化结构
$n集成一体化设计，简洁的仪器外形通过USB接口与计算机相连，方便仪器使用。
$n高稳定性光源
$n采用半导体激光器作为探测光的光源，稳定性高，噪声低。
$n丰富实用的样品测量功能
$n可测量纳米薄膜的膜厚和折射率、块状材料的复折射率等。
$n便捷的自动化操作
$n仪器软件可自动完成样品测量，并可进行方便的测量数据分析、仪器校准等操作。
$n安全的用户使用权限管理
$n软件中设置了用户使用权限（包括：管理员、等模式），便于仪器管理和使用。
$n可扩展的仪器功能
$n利用本仪器，可通过适当扩展，完成多项偏振测量实验，如马吕斯定律实验、旋光测量实、旋光等。
$n应用领域:
$nEX3适合于教学中单层纳米薄膜的薄膜厚度测量，也可用于测量块状材料的折射率n和消光系数k。
$nEX3可测量的样品涉及微电子、半导体、集成电路、显示技术、太阳电池、光学薄膜、生命科学、化学、电化学、磁质存储、平板显示、聚合物及金属表面处理等领域。
$n技术指标:
$n$n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n
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项目
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技术指标
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仪器型号
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EX3
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测量方式
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自动测量
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$n
样品放置方式
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水平放置
$n
$n
光源
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半导体激光器，波长635nm
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膜厚测量重复性*
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0.5nm (对于Si基底上100nm的SiO2膜层)
$n
$n
膜厚范围
$n 		$n
透明薄膜：1-4000nm
$n
吸收薄膜则与材料性质相关
$n
$n
折射率范围
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1.3 – 10
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探测光束直径
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Φ2-3mm
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$n
入射角度
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30°-90°，精度0.05°
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偏振器方位角读数范围
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0-360°
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$n
偏振器步进角
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0.014°
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$n
样品方位调整
$n 		$n
Z轴高度调节：16mm
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二维俯仰调节：±4°
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允许样品尺寸
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圆形样品直径Φ120mm，矩形样品可达120mm x 160mm
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配套软件
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* 用户权限设置
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* 多种测量模式选择
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* 多个测量项目选择
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* 方便的数据分析、计算、输入输出
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外形尺寸
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（入射角度70°时）450*375*260mm
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$n
仪器重量（净重）
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15Kg
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$n注：(1)测量重复性：是指对标准样品上同一点、同一条件下连续测量30次的标准差。
$n性能保证:
$nISO9001国际质量体系下的仪器质量保证
$n专业的仪器使用培训
$n专业的椭偏测量原理课程
$n 
$n

栏目页面:http://www.runlian365.com/product/4516.html
光谱椭偏仪
来源网址:http://www.runlian365.com/chanpin/xx-200089.html
EX3 自动椭圆偏振测厚仪
型号:JX200098EM12 精致型多入射角激光椭偏仪

$n
$nEM12是采用量拓科技先进的测量技术，针对中端精度需求的研发和质量控制领域推出的精致型多入射角激光椭偏仪。
$nEM12可在单入射角度或多入射角度下对样品进行准确测量。可用于测量单层或多层纳米薄膜样品的膜层厚度、折射率n和消光系数k；也可用于同时测量块状材料的折射率n和消光系数k；亦可用于实时测量纳米薄膜动态生长中膜层的厚度、折射率n和消光系数k。多入射角度设计实现了纳米薄膜的厚度测量。
$n    EM12采用了量拓科技多项专利技术。
$n特点：
$n次纳米量级的高灵敏度
$n国际先进的采样方法、高稳定的核心器件、高质量的制造工艺实现并保证了能够测量极薄纳米薄膜，膜厚精度可达到0.2nm。
$n1.6秒的快速测量
$n国际水准的仪器设计，在保证精度和准确度的同时，可在1.6秒内快速完成一次测量，可对纳米膜层生长过程进行测量。
$n简单方便的仪器操作
$n用户只需一个按钮即可完成复杂的材料测量和分析过程，数据一键导出。丰富的模型库、材料库方便用户进行高级测量设置。
$n应用：
$nEM12适合于中端精度要求的科研和工业环境中的新品研发或质量控制。
$nEM12可用于测量单层或多层纳米薄膜层构样品的薄膜厚度、折射率n及消光系数k；可用于同时测量块状材料的折射率n和消光系数k；可用于实时测量快速变化的纳米薄膜的厚度、折射率n和消光系数k。
$nEM12可应用的纳米薄膜领域包括：微电子、半导体、集成电路、显示技术、太阳电池、光学薄膜、生命科学、化学、电化学、磁质存储、平板显示、聚合物及金属表面处理等。可应用的块状材料领域包括：固体（金属、半导体、介质等），或液体（纯净物或混合物）。
$n技术指标:$n
$n$n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n
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项目
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技术指标
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仪器型号
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EM12
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激光波长
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632.8nm (He-Ne Laser)
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膜厚测量重复性（1）
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0.2nm (对于平面Si基底上100nm的SiO2膜层)
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$n
折射率测量重复性（1）
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2x10-3 (对于平面Si基底上100nm的SiO2膜层)
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单次测量时间
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与测量设置相关，典型1.6s
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的膜层范围
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透明薄膜可达4000nm
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吸收薄膜则与材料性质相关
$n
$n
光学结构
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PSCA（Δ在0°或180°附近时也具有极高的准确度）
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激光光束直径
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1-2mm
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入射角度
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40°-90°可手动调节，步进5°
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$n
样品方位调整
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Z轴高度调节：±6.5mm
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二维俯仰调节：±4°
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样品对准：光学自准直和显微对准系统
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样品台尺寸
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平面样品直径可达Φ170mm
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外形尺寸
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887 x 332 x 552mm (入射角为90º时)
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仪器重量（净重）
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25Kg
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选配件
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水平XY轴调节平移台
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真空吸附泵
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$n
软件
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ETEM软件：
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l 中英文界面可选；
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l 多个预设项目供快捷操作使用；
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l 单角度测量/多角度测量操作和数据拟合；
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l 方便的数据显示、编辑和输出
$n
l 丰富的模型和材料数据库支持
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$n
$n
注：(1)测量重复性：是指对标准样品上同一点、同一条件下连续测量25次所计算的标准差。
$n 
$n性能保证:$n
    $n
  • 稳定性的He-Ne激光光源、先进的采样方法，保证了高稳定性和高准确度
    • $n
  • 高精度的光学自准直系统，保证了快速、高精度的样品方位对准
    • $n
  • 稳定的结构设计、可靠的样品方位对准，结合先进的采样技术，保证了快速、稳定测量
    • $n
  • 分立式的多入射角选择，可应用于复杂样品的折射率和厚度的测量
    • $n
  • 一体化集成式的仪器结构设计，使得系统操作简单、整体稳定性提高，并节省空间
    • $n
  • 一键式软件设计以及丰富的物理模型库和材料数据库，方便用户使用  
    • $n
  • 可选配件：
    $n NFS-SiO2/Si二氧化硅纳米薄膜标片
    $n NFS-Si3N4/Si氮化硅纳米薄膜标片
    $n VP01真空吸附泵
    $n VP02真空吸附泵
    $n 样品池
    • $n
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光谱椭偏仪
来源网址:http://www.runlian365.com/chanpin/xx-200098.html
EM12 精致型多入射角激光椭偏仪
型号:JX200092ETSys-Map-PV在线薄膜测量系统

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$n ETSys-Map-PV是针对高端薄膜太阳电池研发和质量控制领域中大面积样品检测专门设计的在线薄膜测量系统。
$n    ETSys-Map-PV用于对1.4m * 1.1m及以上的大面积薄膜太阳电池样品进行在线检测。可测量光滑平面或粗糙表面基底上的纳米薄膜，包括单层或多层纳米薄膜样品的膜层厚度、折射率n和消光系数k；并可同时测量块状材料的折射率n和消光系数k。可测量样品上指定区域的样品参数以及样品表面的均一性分布。
$n    ETSys-Map-PV融合量拓科技在高精度激光椭偏仪及光伏在太阳能电池领域的先进技术和产品设计方面的经验，性能。
$n特点:
$n大面积绒面样品上全表面测量
$n可对大面积绒面薄膜太阳电池样品上各点的性质进行分析和比较。先进的光能量增强技术、低噪声的探测器件以及高信噪比的微弱信号处理方法，实现了对粗糙表面散射为主和极低反射率为特征的绒面太阳电池表面镀层的高灵敏检测。
$n微米量级的全面积扫描精度
$n先进的系统设计，能够使探头到达样品上每个点，扫描精度达到微米量级。
$n原子层量级的膜厚分析精度
$n采用非接触、无破坏性的椭偏测量技术，对纳米薄膜达到极高的测量准确度和灵敏度，膜厚测量灵敏度可达到0.05nm。
$n简单方便安全的仪器操作
$n用户只需一个按钮即可完成复杂的材料测量和分析过程，数据一键导出。丰富的模型库、材料库方便用户进行高级测量设置。
$n应用:
$n      ETSys-Map-PV适合于高精度要求的薄膜太阳电池研发和质量控制。
$n  ETSys-Map-PV可用于测量大面积的薄膜太阳电池样品上单层或多层纳米薄膜层构样品的薄膜厚度、折射率n及消光系数k；
$n  ETSys-Map-PV可用于测量块状材料的折射率n及消光系数k；
$n  ETSys-Map-PV可应用于：
$n大面积薄膜太阳电池基底的材料测量
$n薄膜太阳电池玻璃基底上透明导电氧化物（TCO）镀膜测量
$n $n技术指标:$n$n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n $n
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项目
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技术指标
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系统型号
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ETSys-Map-PV
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$n
结构类型
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在线式
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激光波长
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632.8nm (He-Ne laser)
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膜厚测量重复性（1）
$n 		$n
0.05nm (对于Si基底上100nm的SiO2膜层)
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$n
折射率n精度（1）
$n 		$n
5x10-4  (对于Si基底上100nm的SiO2膜层)
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结构
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PSCA
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激光光束直径
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~1 mm
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入射角度
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60°-75°可选
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样品放置
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放置方式：水平
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运动：X轴单方向运动
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运动范围：>;1.4m
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三维平移调节
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二维俯仰调节
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可对样品进行扫描测量
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样品台尺寸
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1.4m*1.1m，并可定制。
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测量速度
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典型0.6s-4s /点（取决于样品种类及测量设置）
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的膜层厚度测量范围
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光滑平面样品：透明薄膜可达4000nm，吸收薄膜与材料性质相关
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选配件
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样品监视系统
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自动样品上片系统
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$n  注：（1）测量重复性：是指对标准样品上同一点、同一条件下连续测量25次所计算的标准差。
$n性能保证
$n高稳定性的He-Ne激光光源、高精度的采样方法以及低噪声探测技术，保证了系统的高稳定性和高准确度
$n稳定的结构设计、可靠的样品方位对准，结合先进的采样技术，保证了快速、稳定测量
$n一体化集成式的结构设计，使得系统操作简单、整体稳定性提高
$n一键式软件设计以及丰富的物理模型库和材料数据库，方便用户使用
$n 可选配件：
$n NFS-SiO2/Si二氧化硅纳米薄膜标片
$n NFS-Si3N4/Si氮化硅纳米薄膜标片
$n

栏目页面:http://www.runlian365.com/product/4516.html
光谱椭偏仪
来源网址:http://www.runlian365.com/chanpin/xx-200092.html
ETSys-Map-PV在线薄膜测量系统

福州测量薄膜厚度仪器林州光谱型椭偏仪林州深受广大客户青睐多种型号图片
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型号:JX200089EX3 自动椭圆偏振测厚仪型号:JX200098EM12 精致型多入射角激光椭偏仪型号:JX200092ETSys-Map-PV在线薄膜测量系统

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$n我们本着精益求精、经销诚实守信、服务热情周到的服务宗旨和协助伙伴成就事业从而成就自己的事业的立业精神，为客戶提供的品质和服务。因产品种类多 没有一一上传,如有需要,请联系我们。
【关于发货】
$n我们会在确认合作方式以及合作达成时为您发货考虑到成本的因素，我们一般采用物流发货，不过请您放心，因为我们的外地客户非常之多，基本上我们业务已经覆盖全国，所以物流公司都是我们精心筛选的，不管是发货时间，还是价格都是满意的，同时我们在交付物流公司后将在时间告知客户，并且我们会将物流费用一并告知发货打包我们都有专人严格检查商品的质量的，请放心购买。联系方式:李经理
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