美国 nanoArch 高精度微尺度3D打印系统

nanoArchR P130 系统简介

nanoArch P130是可以实现高精度微尺度3D打印的设备系统，它采用的是面投影微立体光刻（PμLSE：Projection Micro Litho Stereo Exposure）技术。该技术使用高精密紫外光刻投影系统，将需打印图案投影到树脂槽液面，在液面固化树脂并快速微立体成型，从数字模型直接加工三维复杂的模型和样件，完成样品的制作。该技术具备成型效率高、打印精度高等突出优势，被认为是目前Z有前景的微纳加工技术之一。

科研级3D打印系统

nanoArch P130是科研级3D打印系统，拥有2μm的超高打印精度和5μm的超低打印层厚，从而实现超高精度的样件制作，非常适合高校和研究机构用于科学研究及应用创新。

打印材料：

   。通用型：丙烯酸类光敏树脂，如HDDA，PEGDA等

   。个生化：高强度硬性树脂，纳米颗粒掺杂树脂，生物医用树脂等。

系统特性：

    。高精度：XY打印精度高达2μm；      

。低层厚：5μm-20μm的打印层厚；

    。微尺度打印能力；                    

。光学监控系统，自动对焦功能；

    。配置气浮平台，提高打印质量；        

。优良的光源稳定性；

    。配备完善的样品后处理组件，包括抽真空及紫外后固化。