武穴椭偏仪测量薄膜厚度 光谱型椭偏仪 的特点是什么
- 产地：中国大陆
- 供应商：河北慧采科技有限公司
- 供应商报价：电议
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产品库
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| 型号:JX200096EM13 LD系列多入射角激光椭偏仪 | $n型号:JX200090EX2自动椭圆偏振测厚仪 | $n型号:JX200092ETSys-Map-PV在线薄膜测量系统 | $n
| $n 项目 $n | $n $n 技术指标 $n | $n
| $n 仪器型号 $n | $n $n EM13 LD/635 (或其它选定波长) $n | $n
| $n 激光波长 $n | $n $n 635 nm (或其它选定波长，高稳定半导体激光器) $n | $n
| $n 膜厚测量重复性（1） $n | $n $n 0.5nm (对于平面Si基底上100nm的SiO2膜层) $n | $n
| $n 折射率测量重复性（1） $n | $n $n 5x10-3 (对于平面Si基底上100nm的SiO2膜层) $n | $n
| $n 单次测量时间 $n | $n $n 与测量设置相关，典型3s $n | $n
| $n 的膜层范围 $n | $n $n 透明薄膜可达1000nm $n 吸收薄膜则与材料性质相关 $n | $n
| $n 光学结构 $n | $n $n PSCA（Δ在0°或180°附近时也具有极高的准确度） $n | $n
| $n 激光光束直径 $n | $n $n 2mm $n | $n
| $n 入射角度 $n | $n $n 40°-90°可手动调节，步进5° $n | $n
| $n 样品方位调整 $n | $n $n Z轴高度调节：±6.5mm $n 二维俯仰调节：±4° $n 样品对准：光学自准直和显微对准系统 $n | $n
| $n 样品台尺寸 $n | $n $n 平面样品直径可达Φ170mm $n | $n
| $n 外形尺寸 $n | $n $n 887 x 332 x 552mm (入射角为90º时) $n | $n
| $n 仪器重量（净重） $n | $n $n 25Kg $n | $n
| $n 选配件 $n | $n $n 水平XY轴调节平移台，真空吸附泵 $n | $n
| $n 软件(ETEM) $n | $n $n * 中英文界面可选 $n * 多个预设项目供快捷操作使用 $n * 单角度测量/多角度测量操作和数据拟合 $n * 方便的数据显示、编辑和输出 $n * 丰富的模型和材料数据库支持 $n | $n
| $n 项目 $n | $n $n 技术指标 $n | $n
| $n 仪器型号 $n | $n $n EX2 $n | $n
| $n 测量方式 $n | $n $n 自动测量 $n | $n
| $n 样品放置方式 $n | $n $n 水平放置 $n | $n
| $n 光源 $n | $n $n He-Ne激光器，波长632.8nm $n | $n
| $n 膜厚测量重复性* $n | $n $n 0.5nm (对于Si基底上100nm的SiO2膜层) $n | $n
| $n 膜厚范围 $n | $n $n 透明薄膜：1-4000nm $n 吸收薄膜则与材料性质相关 $n | $n
| $n 折射率范围 $n | $n $n 1.3 – 10 $n | $n
| $n 探测光束直径 $n | $n $n Φ2-3mm $n | $n
| $n 入射角度 $n | $n $n 30°-90°，精度0.05° $n | $n
| $n 偏振器方位角读数范围 $n | $n $n 0-360° $n | $n
| $n 偏振器步进角 $n | $n $n 0.014° $n | $n
| $n 样品方位调整 $n | $n $n Z轴高度调节：16mm $n 二维俯仰调节：±4° $n | $n
| $n 允许样品尺寸 $n | $n $n 样品直径可达Φ160mm $n | $n
| $n 配套软件 $n | $n $n * 用户权限设置 $n * 多种测量模式选择 $n * 多个测量项目选择 $n * 方便的数据分析、计算、输入输出 $n | $n
| $n 外形尺寸 $n | $n $n 约400*400*250mm $n | $n
| $n 仪器重量（净重） $n | $n $n 约20Kg $n | $n
| $n 选配件 $n | $n $n * 半导体激光器 $n | $n
| $n 项目 $n | $n $n 技术指标 $n | $n
| $n 系统型号 $n | $n $n ETSys-Map-PV $n | $n
| $n 结构类型 $n | $n $n 在线式 $n | $n
| $n 激光波长 $n | $n $n 632.8nm (He-Ne laser) $n | $n
| $n 膜厚测量重复性（1） $n | $n $n 0.05nm (对于Si基底上100nm的SiO2膜层) $n | $n
| $n 折射率n精度（1） $n | $n $n 5x10-4 (对于Si基底上100nm的SiO2膜层) $n | $n
| $n 结构 $n | $n $n PSCA $n | $n
| $n 激光光束直径 $n | $n $n ~1 mm $n | $n
| $n 入射角度 $n | $n $n 60°-75°可选 $n | $n
| $n 样品放置 $n | $n $n 放置方式：水平 $n 运动：X轴单方向运动 $n 运动范围：>1.4m $n 三维平移调节 $n 二维俯仰调节 $n 可对样品进行扫描测量 $n | $n
| $n 样品台尺寸 $n | $n $n 1.4m*1.1m，并可定制。 $n | $n
| $n 测量速度 $n | $n $n 典型0.6s-4s /点（取决于样品种类及测量设置） $n | $n
| $n 的膜层厚度测量范围 $n | $n $n 光滑平面样品：透明薄膜可达4000nm，吸收薄膜与材料性质相关 $n | $n
| $n 选配件 $n | $n $n 样品监视系统 $n 自动样品上片系统 $n | $n
