波长扫描式 多入射角光谱椭偏仪

ESS03系列多入射角光谱椭偏仪尤其适合科研中的新品研发。

波长扫描式 多入射角光谱椭偏仪适合很大范围的材料种类，包括对介质材料、聚合物、半导体、金属等的实时和非实时检测，光谱范围覆盖半导体地临界点，这对于测量和控制合成的半导体合金成分非常有用。并且适合于较大的膜厚范围（从次纳米量级到10微米左右）。

波长扫描式 多入射角光谱椭偏仪用于测量光面基底上的单层和多层纳米薄膜的厚度、折射率n及消光系数k。应用领域包括：微电子、半导体、集成电路、显示技术、太阳电池、光学薄膜、生命科学、化学、电化学、磁介质存储、平板显示、聚合物及金属表面处理等。

薄膜相关应用涉及物理、化学、信息、环保等，典型应用如：

半导体：如：介电薄膜、金属薄膜、高分子、光刻胶、硅、PZT膜，激光二极管GaN和AlGaN、透明的电子器件等）；

平板显示：TFT、OLED、等离子显示板、柔性显示板等；

功能性涂料：增透型、自清洁型、电致变色型、镜面性光学涂层，以及高分子、油类、Al2O3表面镀层和处理等；

生物和化学工程：有机薄膜、LB膜、SAM膜、蛋白子分子层、薄膜吸附、表面改性处理、液体等。

节能环保领域：LOW-E玻璃等。