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CVD氧化硅硅基底单层二硫化钼

产品信息
  • 中文名称： CVD氧化硅硅基底单层二硫化钼

    英文名称：     Single Layer MoS2 on SiO2/Si

    CAS号：1317-33-5

    包  装： 1 盒

    保质期：  6月常温干燥避光

    性  质

    形  态：     薄膜

    参  数

    基  底：     二氧化硅/硅

    基底尺寸： 8 mm*6 mm

    氧化层： 300nm

    片径范围： 20-50 μm

    厚  度： 0.6～0.8 nm

    应  用： 酶联生物推出CVD法制备的单层二硫化钼，相比较锂插层制备的单层二硫化钼，该产品具有缺陷少，层数可控，优异的光学性质，是研究层数和荧光效应和制备器件的优异材料，欢迎咨询
    温馨提示：不可用于临床ZL。
    • 信息声明：本产品供应信息由仪器网为您整合，供应商为（江西江蓝纯生物试剂有限公司），内容包括 （CVD氧化硅硅基底单层二硫化钼）的品牌、型号、技术参数、详细介绍等；如果您想了解更多关于 （CVD氧化硅硅基底单层二硫化钼）的信息，请直接联系供应商，给供应商留言！
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