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机械剥离氧化铝基底单层二硫化钼

产品信息
  • 产品名称
    中文名称: 机械剥离氧化铝基底单层二硫化钼
    英文名称：Mechanical exfoliation MoS2 on Al2O3
     
    性质
    形态：薄膜
    参数
    基底：氧化铝
    基底尺寸：10 mmx10 mm
    MOS2面积: ＞10 µm2
     
    应用
    先丰纳米ZX推出机械剥离制备的二硫化钼，相比较锂插层制备的单层类石墨烯材料，该类材料具有缺陷少，优异的光学性质，可以研究层数和荧光效应，此外，由于保持了原有晶格结构，所以该类材料是制备器件的理想材料。
     
    其他信息
    详情请发邮件至：sale@xfnano.com
     
    温馨提示：不可用于临床ZL。
    • 信息声明：本产品供应信息由仪器网为您整合，供应商为（南京先丰纳米材料科技有限公司），内容包括 （机械剥离氧化铝基底单层二硫化钼）的品牌、型号、技术参数、详细介绍等；如果您想了解更多关于 （机械剥离氧化铝基底单层二硫化钼）的信息，请直接联系供应商，给供应商留言！
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