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小型高真空二合一镀膜仪

产品信息

详情介绍:

等离子溅射和蒸发二合一镀膜仪配备了直流溅射靶和热蒸发组件,不但可以用于等离子溅射方式镀金属膜,也可以用蒸发的方式得到碳或者其他金属单质的薄膜。为了提高镀膜质量,本台二合一镀膜仪采用的不锈钢真空腔体配合精密分子泵的高真空设计,较高的真空度能够有效的提升镀膜纯净度和均匀度,有利于得到更好的实验效果。样品台有旋转和加热功能,能够提高薄膜的附着力和成膜的均匀度。本仪器体积小,节省空间,能够置于试验台上使用,非常适合各大高校及研究机构选用。

小型高真空二合一镀膜仪适用范围:

扫描电镜样品表面喷金、蒸金喷碳等操作,以及非导体材料试验电极的制作等。

小型高真空二合一镀膜仪技术参数:

 

 

样品台

尺寸

φ138mm

控温精度

±1

加热温度

*高500

转速

1-20rpm可调

直流溅射头

数量

2”×1

 

 

蒸发系统

蒸发源

钨丝篮

*高温度

1700

热电偶

S型热电偶

 

 

真空腔体

腔体尺寸

φ170mm×200mm

观察窗口

石英观察窗 φ70

腔体材料

不锈钢

开启方式

上开启式

真空系统

产品型号

CY-GZK103-A

抽气接口

KF40

分子泵

CY-600

排气接口

KF16

前极泵

旋片泵

真空测量

复合真空计

极限真空

1.0E-5Pa

抽气速率

分子泵:600L/S  旋片泵:1.1L/S  综合抽气性能:20分钟真空度可达: 1.0E-3Pa

溅射电源配置

数量

直流电源×1

Max 输出功率

150w

 

其他

供电电压

AC220V,50Hz

整机尺寸

600mm×300mm×470mm

整机功率

1.5kw

整机重量

40kg

 

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