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透射电镜(TEM)用氧化硅薄膜窗格/样品支持膜

产品信息

透射电镜(TEM)用氧化硅薄膜窗格

 

氧化硅与氮化硅薄膜窗格比较:

相比氮化硅薄膜,氧化硅薄膜更适合用于含氮样本。在EDS研究中,如基片薄膜含氮,则会与样本造成混淆。

样本安置面:

对多数用户来说,样本应安置在薄膜窗格的“覆膜面”而非“蚀坑面”。但我们也知道在一些特殊情况下,蚀坑面也可安置样本。除对样本进行原子力显微镜(AFM)观测外,蚀坑面本质上并非不可用于放置样本。实际上,没有一个显微镜的悬臂可以伸至蚀坑内“看清”薄膜表面。

产品规格:

氧化硅薄膜窗特点:

清洗:采用等离子清洗,无有机物残留,改善成像质量;

均匀性:减少了不同区域的不均匀性;

稳定性: 耐高温,>1000℃;

良好的化学稳定性:图像分辨率和机械强度达到理想的平衡;

化学计量比的SiO2可用于氮气环境下的EDX分析;

 

氧化硅薄膜窗规格

窗口类型

薄膜厚度

窗口尺寸

框架尺寸

框架厚度

20nm

2x1阵列,100X1500µm

Φ3mm

200µm

40nm

2x1阵列,100X1500µm

Φ3mm

200µm

20nm

3x3阵列,窗口100X100µm

Φ3mm

200µm

100nm

3x3阵列,窗口100X100µm

Φ3mm

200µm

8nm

窗口0.5x0.5mm,氮化硅薄膜200nm;24个网格,网格大小70x70µm

Φ3mm

200µm

18nm

窗口0.5x0.5mm,氮化硅薄膜200nm;24个网格,网格大小60x60µm

Φ3mm

200µm

40nm

窗口0.5x0.5mm,氮化硅薄膜200nm;24个网格,网格大小50x50µm

Φ3mm

200µm


优点:

  • SEM应用中,薄膜背景不呈现任何结构和特点。
  • x-射线显微镜中,装载多个分析样的*方法。
  • 无氮

 

应用:

氧化硅薄膜应用范围非常广,甚至有时使不可能变为可能,但所有应用都有无氮要求(因样本中有氮存在):

● 惰性基片可用于高温环境下,通过TEM、SEM或AFM(某些情况下)对反应进行动态观察。

● 作为耐用(如“QL”)基片,首先在TEM下,然后在SEM下对同一区域进行“匹配”。

● 作为耐用匹配基片,对AFM和TEM图像进行比较。

● 聚焦离子束(FIB)样本的装载,我们推荐使用多孔薄膜,而非不间断薄膜。

 

 氧化硅薄膜TEM网格操作使用: 

如果正确操作,氧化硅薄膜将会拥有非常好的性能。相反,若用工具直接接触薄膜,则会即刻损坏薄膜。为防损坏,可用尖嘴镊子小心夹取,就像夹取其他TEM网格一样。 

使用前清洁:
    氧化硅薄膜窗格在使用前不需进行额外清洁。有时薄膜表面边角处会散落个别氧化物或氮化物碎片。由于单片网格需要从整个硅片中分离,并对外框进行打磨,因此这些微小碎片不可避免。尽管如此,我们相信这些碎片微粒不会对您的实验产生任何影响。

 

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