XTY5127684 多靶磁控溅射镀膜机

多靶磁控溅射镀膜机◆ 镀膜方式：可实现多靶共溅模式；◆ 磁控靶：圆柱/平面靶；◆ 进气系统：三路质量流量计；◆ 镀膜室体积：500mmX500mmX600mm；◆ 极限真空度：6.7X10-5 Pa，恢复真空：从大气抽至6.7X10-4 Pa （40分钟）；◆ 真空抽气系统：机械泵与分子泵组成；◆ 真空测量系统：数显复合真空计；◆ 工作电源：直流电源500W；射频电源500W（13.56MHz）；加热控温电源；◆ 工件烘烤温度：室温～800℃可控可调(PID控温)；◆ 选配件：石英晶振测厚仪、冷却水机组等；◆ 供电电源：三相AC380V，50Hz。