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XTY5127686 射频磁控溅射镀膜装置

产品信息
射频磁控溅射镀膜装置本设备主要用于大专院校本科实验教学与科研工作。可以制备各种硬质膜、金属膜、非金属、化合物等薄膜材料。可以进行直接溅射，亦可以实现反应溅射。◆ 用户需自备或选配：冷却水系统、氩气（99.99%）、靶材等。
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