光谱椭偏仪（spectroscopic ellipsometer）

高精度光谱椭偏仪！
可以精确测量折射指数、消光系数（n & K)，膜厚等，广泛适用于半导体、电介质、聚合物、金属等材料，单层薄膜和多层膜。客户包括US Army Research Lab，NASA，NIST，UC Berkeley，MIT，Harvard，Honeywell和Sharp Microelectronics等；

根据客户需求，可提供不同型号：

变角度单波长椭偏仪（632.8nm）；

变角度多波长椭偏仪（532, 632.8, 1064nm, …）；

变角度光谱椭偏仪（深紫外、紫外-可见-近红外光谱190-2300nm）；

全自动光谱椭偏仪（深紫外、紫外-可见-近红外光谱190-2300nm）；

红外光谱椭偏仪等；

膜厚范围：0-30000nm
折射指数：± 0.0001
厚度准确度：± 0.01nm
入射角度：20 - 90°
波长范围：250-1100nm（深紫外、近红外、红外可选）
Psi=±0.01°，Delta=±0.02°

高精度测量；

变角度功能；

全光谱测量；