仪器介绍
近来多层膜和多化合物材料体系表征的需求不断增加，分光式椭偏技术的应用也随之激增。表面处理，半导体，先进材料研究和物理化学界面问题的探讨都要求非破坏性和非常灵敏的薄膜表征技术。
分光式椭偏技术是测量样品表面反射光的极性状态变化的光学技术。该项技术的灵敏性和精确性使得对薄膜、表面和界面的表征进入了埃量级。
技术参数
得到的信息
膜厚：从几埃倒几十个微米
光学常数(n, k), 光学带隙
材料特性：复合合金的组分，孔隙率，结晶度，各向异性。
主要特点
相调制和液晶调制技术
从远紫外到近红外的分光测量
可用于科研，质量控制和工业测量的椭偏计
包括多种附件的模块式配置
完全集成的分光式椭偏术软件包
非破坏性非接触技术
特别对小于10 nm的超薄薄膜非常灵敏
更高的空间分辨率
实时监测薄膜生长或刻蚀，实现快速的动态测量
自动测量样品表面的均匀性分布
无需样品制备
容易操作
