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EM01-RD 多入射角激光椭偏仪

产品信息
EM01-RD多入射角激光椭偏仪（研发级）已升级至EMPro31 极致型多入射角激光椭偏仪，主要升级内容包括：

•单次测量速度提高3倍;
•新的仪器外形;
•整体稳定性增强.

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EM01-RD多入射角激光椭偏仪（研发级）已升级至EMPro31 型多入射角激光椭偏仪，主要升级内容包括：
  • 单次测量速度提高3倍;
  • 新的仪器外形;
  • 整体稳定性增强.

纳米薄膜高端研发领域专用的多入射角激光椭偏仪，用于纳米薄膜的厚度、折射率n、消光系数k等参数的测量。适用于光面或绒面纳米薄膜测量、块状固体参数测量、快速变化的纳米薄膜实时测量等不同的应用场合。采用量拓科技多项专利技术，仪器操作具有个性化定制功能，方便使用。
特点：
  • 高精度、高稳定性
  •  一体化集成设计
  • 快速、高精度样品方位对准
  • 多入射角度测量
  • 快速反应过程的实时测量
  • 操作简单
  • 丰富的材料库及物理模型
  • 强大的数据分析和管理 
     
应用领域：
  • 可对纳米薄膜层构样品的薄膜厚度、折射率n及消光系数k进行快速、高精度、高准确度的测量，尤其适合于科研和工业产品环境中的新品研发
  • 可用于表征单层纳米薄膜、多层纳米层构膜系，以及块状材料（基底）。
  • 应用领域涉及纳米薄膜的几乎所有领域，如微电子、半导体、集成电路、显示技术、太阳电池、光学薄膜、生命科学、电化学、磁介质存储、聚合物及金属表面处理等。
性能保证：
  • 高稳定性的He-Ne激光光源、高精度的采样方法以及低噪声探测技术，保证了系统的高稳定性和高准确度
  • .高精度的光学自准直望远系统，保证了快速、高精度的样品方位对准
  • 稳定的结构设计、可靠的样品方位对准，结合先进的采样技术，保证了快速、稳定测量
  • 分立式的多入射角选择，可应用于复杂样品的折射率和厚度的测量
  • 一体化集成式的仪器结构设计，使得系统操作简单、整体稳定性提高，并节省空间
  • 专用软件方便纳米薄膜样品的测试和建模。 
技术指标：

激光波长
632.8nm （He-Ne laser）
膜厚测量重复性
0.01nm （对于Si基底上110nm的SiO2膜层）
折射率精度
1x10-4对于Si基底上110nm的SiO2膜层）   （
光学结构
PSCA
激光光束直径
<1mm
入射角度
40°-90°可选，步进5°
样品方位调整
三维平移调节
二维俯仰调节
光学自准直系统对准
样品台尺寸
Φ170mm
单次测量时间
0.2s
推荐测量范围
0-6000nm
外形尺寸（长x宽x高）
887 x 332 x 552mm （入射角为70º时）
仪器重量（净重）
25Kg

信息声明：本产品供应信息由仪器网为您整合，供应商为（北京量拓科技有限公司），内容包括 （EM01-RD 多入射角激光椭偏仪）的品牌、型号、技术参数、详细介绍等；如果您想了解更多关于 （EM01-RD 多入射角激光椭偏仪）的信息，请直接联系供应商，给供应商留言！
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