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丹顿磁控溅射/电子束蒸发设备/销量领先

产品信息

 

丹顿(美国)真空技术有限公司

上海办事处   张经理

联系方式:13371858581 

地址:上海市闵行区沪闵路6259号A-706室

 

磁控溅射系统Discovery®635 

主要应用于微电子、光电子、功率器件、声表器件、射频器件、先进封装TSV、MEMS、光学、材料研究等应用中的金属、介质薄膜的沉积

Discovery 635标准工件盘尺寸为8英寸,

 多靶直流/射频磁控溅射,标准635系统Z多可以装配四个靶,靶枪高度可调,角度可调靶枪可选。可提供充分的工艺灵活性(直流/射频/脉冲溅射,共溅射);

 

磁控溅射系统 Discovery®785

Discovery 785可以处理直径达10英寸的基片,Discovery可以处理直径达12英寸的基片。

多靶直流/射频磁控溅射 ,Z多可以装六个靶,靶枪高度可调,角度可调靶枪可选。可提供充分的工艺灵活性(直流/射频/脉冲溅射,共溅射);

 

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