EMS550离子溅射镀膜仪

什么是离子溅射镀膜？    在阳极与阴极之间使用合适的气体(常用的是氩气)和电压，当出现辉光放电时，阴极材料在气体离子的轰击下将侵蚀目标材料，这个过程就叫离子溅射。其结果是溅射出来的原子(阴极材料)将在样本(通常样本固定于阳极上)表面形成一层薄膜，均匀分布在样本的表面。阴极材料通常使用金，习惯称之为金靶。EMS550离子溅射镀膜仪       EMS 550具有旋转样品台，可倾斜，适合各种样品。参数可预设，全自动控制保证获得精确的镀层厚度。 低电压溅射、冷溅射、精细颗粒等功能的使用，大大提高了工作效率。腔室直径为165 mm(6英寸)，非常方便装载及移走样品。 仪器装有60mm直径、0.1mm厚的金靶(可选)。可选靶材包括金/钯，铂/钯和铂。 各种功能都集中设计在仪表板上，使用方便，满足不同学科的用户使用要求。 溅射参数可预设，包括气体放气针阀(此阀为电磁阀)，一旦设置，就不需要再调节。溅射头互锁，系统可选配EMS250镀碳附件。    本仪器为全自动操作，可控制独立的真空泵。

性能特征 o  复合样本固定器 o  旋转且可倾斜样品台 o  全自动控制 o  低耗冷却系统，无需冷却样本及样品台 o  低压溅射 o  高质量镀层厚度(2nm 金膜). o  精确的可重复性能 o  均匀沉积厚度(20nm或20埃) o  微电子控制 o  聚碳酸脂安全壳体

性能参数： 1.仪器尺寸：450mm W x 350mm D x 175mm H 2.工作腔室：硼硅酸盐玻璃 165mm Dia x 125mm H 3.安全钟罩：聚碳酸酯 4.重量：18公斤 5.靶：60 mm 直径 x 0.1mm 厚(金靶为标准靶面) 6.样品台直径为60 mm，靶面距在25mm－45mm之间可调 7.真空范围：ATM-1x10-2 mbar 8.沉积电流范围：0-50mA 9.沉积速率：0-25nm/分 10.溅射时间：0-4 分钟 11.预设置针阀：控制氩 12.电源：230 伏 50Hz (10 amp max. including Pump)   定购说明： 名称：EMS550离子溅射镀膜机 名称：EMS500离子溅射镀膜机 EMS500为EMS550的的手动型号(无旋转样品台)，其它参数均同。