美国AJA 生产型磁控溅射靶枪

生产型磁控溅射源（HV）

AJA 国际公司自1991 年来已经研发了多种磁控溅射源，包括许多为生产应用定制的大型模型。根据基片几何形状，生产量，腔室装置，靶材材料组成和需求薄膜规格，有很多型号可供选择，矩形，圆形，圆柱形，三角形和旋转磁铁型。

STX 系列圆形磁控溅射源

STX 系列溅射源靶材尺寸从5 英寸到12 英寸不等。这些溅射源特点是，一个特殊模块化磁铁组合，可适用平衡，非平衡，磁性材料，闭合场，高利用率和高均匀性配置。电源有高压DC，脉冲DC，HIPMS,AC,和RF，特点是直接或间接基板背部水冷。内置或外置都可以。一些溅射源配置偏转平衡环，可在气压低至0.2 mTorr 时，实现长距离共聚焦沉积。

STXL 系列矩形磁控溅射源

STXL 溅射源可配置不同靶材，从75 mm x300 mm 到150 mm x 1 meter 不等。这些溅射源特点是，一个特使模块化磁铁组合，可适用平衡，非平衡，磁性材料，闭合场，高利用率和高均匀性配置。电源有高压DC，脉冲DC，HIPMS,AC,和RF，特点是直接或间接基板背部水冷。内置或外置都可以。无论泵位置变化，可调节注气结构可优化均匀性。

三角形磁控溅射源

在圆柱形腔室装置中，基片固定在一个旋转台或三脚架边缘，的溅射源形状是三角形。在Z小化流失速率（均匀性挡板造成的）时实现化均匀性。AJA 还研发出了独特的TR5313 同心三角磁控溅射源。电源是RF或任何DC 形式。完整的隔离气路管道，气体分布系统和QCM 接口可实现化均匀性和工艺控制。

AJA致力于研发生产薄膜沉积系统，包括磁控溅射系统，电子束蒸发系统，热蒸发系统和离子束刻蚀系统。1989年William Hale在美国马萨诸塞州创立了AJA这个品Pai，开始是以物理气相沉积产品供应商问世。随着越来越多的系统和磁控溅射源畅销世界，AJA国际公司不断突破自己，发现更多创新设计解决方案。其中一些方案一直被模仿，但从未被超越。AJA始终保持着薄膜技术领域的前沿地位。

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