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小型离子溅射仪 ETD-2000/3000

产品信息
性能特点如下:ETD-2000/3000型离子溅射仪是依据二(DC)直流溅射原理设计而成的,*简单、可靠、经济的镀膜设备。
适用于电镜实验室的扫描电子显微镜(SEM)样品制备,非导体材料实验电制作。
    产品介绍:小型离子溅射仪 ETD-2000/3000 药(械)准字:无需注册证号

      性能特点如下:ETD-2000/3000型离子溅射仪是依据二(DC)直流溅射原理设计而成的,*简单、可靠、经济的镀膜设备。
      适用于电镜实验室的扫描电子显微镜(SEM)样品制备,非导体材料实验电制作。

      *主要特点:1. 配置有样品溅射室真空表和溅射电流表,用以指示、监控仪器状态;
      2. 溅射电流调整控制器、微型真空气阀。在工作时结合内部自动控制电路很容易控制真空室压强、电离电流及任意选择所需要的电离气体,获得*佳镀膜效果;
      3. 特殊设计的钟罩边缘橡胶密封圈,可保证长期使用不会出现影响样品溅射室真空度的玻璃钟罩“崩边”现象;
      4. 陶瓷密封高压头比通常采用橡胶密封的更经久耐用;
      5. 根据电场中气体电离特性,采用大容量样品溅射真空室和相应面积溅射靶,使溅射镀层更均匀纯净。

      技术参数:*配置参数如下:1、靶(上部电):金:直径:50mm,厚度:0.12mm
      2、真空样品室: 直径:160mm,高:120mm
      3、溅射面积: Ф50mm,*大放置
      4、真空指示表: *高真空度:≤ 4X10-2 mbar
      5、离子电流表: *大电流:50mA(100mA)
      6、定时器: *长时间:900S
      7、微型真空气阀: 可连接φ3mm软管
      8、可通入气体: 多种
      9、*高电压: -1600(-3000)DCV
      10、机械泵: 2L/S

        

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